钯金靶材，Ir铱颗粒

东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产高纯金属材料，蒸发镀膜材料以及溅射靶材的**企业应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸发材料专业为技术依托，拥有多名中高级专业技术人员和专业化应用实验室，具有很强的蒸发材料开发能力。公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多**电子、太阳能企业当中，以较高的性价比，成功发替代了国外进口产品，颇受用户好评。
钯金靶材，Ir铱颗粒
东莞市鼎伟靶材有限公司
联系人：肖先生
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地址：东莞市南城区民间金融大厦
公司主要经营产品：
一、真空镀膜材料
1．高纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）
高纯金属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……
多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等…
稀土金属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等…
稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶
金属膜电阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：
金属膜电阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、**低阻系列（ZYCD）。
2．高纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等…
氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等…
硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…

物以稀为贵。钌、铑、钯、锇、铱、铂6个元素在地壳中的含量都非常少。除了铂在地壳中的含量为亿分之五、钯在地壳中的含量为亿分之一外，钌、铑、锇、铱4个元素在地壳中的含量都只有十亿分之一。又由于它们多分散于各种矿石之中，很少形成大的聚集，所以价格昂贵。这6个元素在化学上称作铂族元素，加上已经介绍过的银和金，就是我们常说的贵金属。
高纯Pd钯靶材厂家：钯靶、钯粒、钯片、钯粉
纯度：3N 、3N5、4N
规格：钯靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）
 钯粒（不规则颗粒1-5mm,10*10*1mm片状，其他规格定做）
 钯片（10*10*1mm,根据客户要求定做）
 钯粉（根据客户要求定做）
高纯Ir铱：铱靶、铱粒、铱片、铱粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5
规格：铱靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  铱粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）
 铱片（根据客户要求定做）
 铱粉（根据客户要求定做）T(不是联系方式)
高纯铂：铂靶、铂粒、铂丝、铂电极、铂片、铂粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5、5N
规格：铂靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  铂粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）
 铂丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
 铂片（根据客户要求定做）
  铂粉（根据客户要求定做）
高纯Ru钌：钌靶、钌粒、钌块、钌片、钌粉
纯度：3N 、3N5、4N、4N5
规格：钌靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  钌块（不规则块状，块状大小可根据客户要求）
 钌粉（根据客户要求定做）
高纯Rh铑：铑靶、铑粒、铑块、铑粉
纯度：3N 、3N5、4N
规格：铑靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  铑块（不规则块状，块状大小可根据客户要求）
 铑粉（根据客户要求定做）

进入20世纪90年代以来，随着新技术和新材料，特别是微电子行业的新器件和新材料的飞速发展，溅射靶材的市场规模日益扩大。!1990"年世界靶材市场销售额为336-397亿日元，年增长率达到 20%；!1991!年约为377-443亿日元， 年增长率为10% 。!1995年仅日本的靶材市场就已达到500亿日元［G］ 。据不完全统计，!1999年世界靶材市场的 年销售额近!10亿美元，其中日本的市场份额**过世界市场的一半，美国的市场份额约占世界的三分之一，中国大陆的年销售额约E""300-500"万美元，中国台湾地区的年销售额约2500""万美元。由于电子薄膜、光学薄膜、光电薄膜、磁性薄膜和**导薄膜等在**和工业上的大规模开发应用，靶材已逐渐发展成为一个专业化产业。随着**的不断发展，世界的靶材市场还将进一步扩大。
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【原创内容】
用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物，再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后,再用酒精，丙酮和去离子水清洗，同我们发现有需要维修的地方会书面通知客户并提供维修报价三、包装和运输所有已贴合靶材包装在真空密封塑料袋中，并附有防潮剂。外包装一般为木箱，四周有防撞层，以保护靶材气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采第二步与第一步类似用酒精清洁；第三步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行的保护手套，**避免用手直接接触靶材二、靶材清洁靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。金属靶材可以通过四步清洁，第一步用在丙酮中浸泡过的无绒软布清洁；路进行判断。在确定阴极不存在短路后，可以进行检漏检查，将水通入阴极确定是否存在漏水现象。五、靶材预溅射靶材预溅射建议采用纯氩气进行溅射，可以起到清洁靶材表面的作化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全中毒一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前较常使用的作背靶的材料是无氧铜，因为无氧铜具有良好的导电性和导热性，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下，如